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富士通:笔记本硬盘2010年上1.2TB
振华网 2007年08月09日 作者:阿亮 编辑:阿亮


早在今年初,富士通就宣布已经掌握了一项关键技术,可以在不久的将来把桌面硬盘和笔记本硬盘的容量分别提升到5TB和1.5TB。

现在,这项技术已经趋于成熟,富士通的计划是最早在2010年推出1.2TB容量的双碟装笔记本硬盘。

富士通声称已经制造出了理想、整齐的纳米孔氧化铝膜,并演示了新材料基本的读写操作能力,从而为实现晶格介质存储和更大的硬盘容量奠定了坚实的基础。

富士通的纳米孔氧化铝膜介质也是通过垂直记录技术实现的,涉及纳米压引光刻、阳极氧化、钴电沉积等尖端技术,纳米孔垂直间隙约100纳米,适合现有的磁头技术。

与垂直记录技术类似,富士通的新方法不会改变硬盘的基本模式,只是在技术细节上进行更新,外观看起来仍是由旋转的碟片和飞行的磁头组成。

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